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        8、气相外延炉

        气相外延炉设备功能：为气相外延生长提供特定的工艺环境，实现在单晶上，生长与单晶晶相具有对应关系的薄层晶体，为单晶沉底实现功能化做基础准备。气相外延即化学气相沉积的一种特殊工艺，其生长薄层的晶体结构是单晶衬底的延续，而且与衬底的晶向保持对应的关系。

        主要企业品牌：

        国际：美国公司、美国gt公司、法国公司、法国as公司、美国公司、美国科特·莱思科公司、美国公司。

        国内：中国电子科技集团第四十八所、青岛赛瑞达、合肥科晶材料技术有限公司、北京金盛微纳、济南力冠电子科技有限公司。

        9、分子束外延系统

        此芯片生产设备功能：分子束外延系统，提供在沉底表面按特定生长薄膜的工艺设备；分子束外延工艺，是一种制备单晶薄膜的技术，它是在适当的衬底与合适的条件下，沿衬底材料晶轴方向逐层生长薄膜。

        主要企业品牌：

        国际：美国veeco公司、美国公司、美国nbm公司、法国riber公司、芬兰公司、德国omi公司、德国公司、英国公司。

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