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第42章 技术阻碍 (8 / 10)

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        国内:中国电子科技集团第四十八所、上海驰舰半导体科技有限公司、中国电子科技集团第四十五所、北京仪器厂、上海机械厂。

        12、等离子体增强化学气相淀积系统

        设备功能:在沉积室利用辉光放电,使其电离后在衬底上进行化学反应,沉积半导体薄膜材料。

        主要企业品牌:

        国际:日本tokki公司、日本岛津公司、美国公司、美国泛林半导体公司、荷兰asm国际公司。

        国内:北京仪器厂、中国电子科技集团第四十五所、上海机械厂。

        13、磁控溅射台

        芯片生产设备功能:通过二极溅射中一个平行于靶表面的封闭磁场,和靶表面上形成的正交电磁场,把二次电子束缚在靶表面特定区域,实现高离子密度和高能量的电离,把靶原子或分子高速率溅射沉积在基片上形成薄膜。

        主要企业品牌:

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