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        其实在三星、台积电、英特尔三家生产的CPU，在性能上的对比，甚至还是英特尔更胜一筹。

        为什么三星、台积电的5纳米，还干不过英特尔的10纳米?

        这就是双方不同的工艺标准，导致英特尔和三星、台积电看似存在差距，实际上，是三星、台积电在标准上搞的鬼。

        光刻法的极限工艺，就在12纳米附近，毕竟光刻要靠深紫外光和蚀刻，这是紫外光的物理性质决定的。

        而纺织法的极限，取决于纳米线的横截直径，理论上单原子的纳米线，横截直径在0.5纳米左右。

        不过黄修远明白，0.5纳米的芯片工艺，现阶段基本不可能实现，单单是一个量子隧穿效应，就足以让芯片报废。

        为什么人类要追求更加小的芯片工艺?

        答案是能耗。

        更加精细的晶体管，可以有效的降低芯片的能耗。

        如果单纯的追求运算力的提升，其实可以采用超算的刀片服务器搭建方式，不断增加芯片的数量。

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